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Nanoscribe高速灰度光刻微纳加工打印系统 Quantum X的核心是Nanoscribe独jia专li的双光子灰度光刻技术（2GL®）。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。
详细介绍
Nanoscribe工业级高速灰度光刻微纳打印系统 - Quantum X
德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统 Quantum X ，并荣获创新奖。该系统是世界first基于双光子灰度光刻技术（2GL?）的精密加工微纳米打印系统，可应用于折射和衍射微光学。该系统的面世代表着Nanoscribe已进军现代微加工工业领域。具有全自动化系统的Quantum X无论从外形或者使用体验上都更符合现代工业需求。
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